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國內(nèi)外氣相二氧化硅的主要品牌及型號

日期:2025-07-12 03:46
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摘要:
國內(nèi)外氣相二氧化硅的主要品牌及型號

贏創(chuàng)德固賽(EVONIK):

親水性:A150、A200、A200V、A300、A380

疏水性:R106、R202、R972、R974、R812、R812S、R8200

瓦克(WACKER) :

親水性:V15、V15P、N20、N20P、T30、T40

疏水性:H13L、H15、H17、H18、H20、H30、H2000

卡博特(CABOT) :

親水性:LM-150、M-5、EH-5

疏水性:TS-530、TS-610、TS-720

德山(TOKUYAMA) :

親水性:QS-102、QS-20LS、QS-30、QS-40

疏水性:DM-10

韓國OCI(奧瑟亞)株式會社:

親水性:K150 K200

國產(chǎn)SHENNA:

親水性:Y150、Y200、Y300、Y380

疏水性:F01、SD10、F08、F09

國內(nèi)外氣相二氧化硅的主要品牌及型號

氣相二氧化硅的性能特點:

作為液體系統(tǒng)的觸變劑、增稠劑,防沉淀、防流掛、能有效改變液體的粘度指數(shù);改善顏料填料在液體體系中懸浮性和分散性;用作分散和研磨助劑;提高涂層耐腐蝕性;提高粉末流動性、貯存穩(wěn)定性;改善粉末帶電量及電荷穩(wěn)定性;提高抗水性;提高漆膜抗刮傷性;提高顏色鮮艷性;固定特殊效果;提高漆膜物理機械性能;提高漆膜附著力和柔韌性;改善橡膠、彈性體粘彈性能,補強;消泡劑中的消泡作用;提高涂層表面硬度、抗刮擦;薄膜及彈性體中防止粘連;作為吸附劑和載體;用于噴墨打印涂層;作為齒科材料的**填充物;作為催化劑載體,顯著的熱絕緣性,用于低溫和高溫絕緣。 

親水性氣相二氧化硅

親水性氣相二氧化硅是通過揮發(fā)性氯硅烷在氫氧焰中水解而制得的。從化學(xué)角度看,這些松散的白色粉末由高純度的無定形二氧化硅構(gòu)成。親水性二氧化硅可用水潤濕,并能在水中分散。除了在傳統(tǒng)工業(yè)領(lǐng)域,如聚酯、有機硅、油漆和涂料中應(yīng)用外,親水性氣相二氧化硅產(chǎn)品越來越多的成功應(yīng)用于高科技領(lǐng)域中。氣相法二氧化硅的納米粒子特性和高純度使其在電子和光纖工業(yè)中的應(yīng)用起了主導(dǎo)作用。親水性氣相二氧化硅產(chǎn)品經(jīng)×射線分析具有無定形結(jié)構(gòu)。根據(jù)市場和應(yīng)用領(lǐng)域不同,我們可以提供不同粒徑的原生顆粒和不同比表面積的產(chǎn)品。一些氣相二氧化硅產(chǎn)品可以壓縮后供貨,一些產(chǎn)品是醫(yī)藥級的。

親水性氣相二氧化硅的功能:

•適于加工處理,調(diào)節(jié)到*佳的流變性

•有機硅彈性體的補強

•非極性液體的增稠

•食品和工業(yè)粉末的助流劑

•高化學(xué)純度

•即使在高溫下仍具有優(yōu)異的絕緣性能

•液體轉(zhuǎn)變成粉末,如醫(yī)藥、化妝品

 

疏水性氣相二氧化硅

疏水性氣相二氧化硅是通過親水性氣相二氧化硅與活性硅烷(例如氯硅烷或六甲基二硅胺烷)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而制得。它具有疏水性(憎水性),而且不能在水中分散。為了解決工業(yè)中一些特殊的技術(shù)問題,各種型號的疏水性氣相二氧化硅被研發(fā)出來。如通過用硅烷或硅氧烷處理改性親水級別的氣相法二氧化硅生產(chǎn)疏水性的氣相法二氧化硅,在*終的產(chǎn)品中,化學(xué)處理劑以化學(xué)鍵方式結(jié)合在原來的親水性氧化物上。除了親水性產(chǎn)品的上述優(yōu)點外,疏水性氣相二氧化硅產(chǎn)品的特點是:低吸濕性、很好的分散性、即使對于極性體系也有流變調(diào)節(jié)能力。有些產(chǎn)品,在疏水處理的基礎(chǔ)上再經(jīng)過結(jié)構(gòu)改性,可為客戶研發(fā)新產(chǎn)品和提高產(chǎn)品的性能提供進一步的幫助。例如:在液體體系中,疏水性氣相二氧化硅可以達到高添加量,而對體系的粘度影響很小。

疏水性氣相二氧化硅的功能:

•加工使用中*適宜的流變性

•極性液體的增稠,如環(huán)氧樹脂

•有機硅彈性體的補強

•高添加量,如在模壓制品中

•良好的疏水性,提高防腐性

•改善介電性能,如在電纜復(fù)合物中

•粉末助流劑,如在粉末涂料及滅火劑等

•在涂料和塑料中提高耐劃傷性

生產(chǎn)方式

氣相法,又稱熱解法、干法或燃燒法。其原料一般為四氯化硅、氧氣(或空氣)和氫氣,高溫下反應(yīng)而成。反應(yīng)式為:SiCl4+ 2H2+ O2>SiO2+4HCl。空氣和氫氣分別經(jīng)過加壓、分離、冷卻脫水、硅膠干燥、除塵過濾后送入合成水解爐。將四氯化硅原料送至精餾塔精餾后,在蒸發(fā)器中加熱蒸發(fā),并以干燥、過濾后的空氣為載體,送至合成水解爐。四氯化硅在高溫下氣化(火焰溫度1000~1800℃)后,與一定量的氫和氧(或空氣)在1800℃左右的高溫下進**相水解;此時生成的氣相二氧化硅顆粒極細,與氣體形成氣溶膠,不易捕集,故使其先在聚集器中聚集成較大顆粒,然后經(jīng)旋風(fēng)分離器收集,再送入脫酸爐,用含氮空氣吹洗氣相二氧化硅至PH值為46即為成品。


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